金融界2025年7月25日音讯，国家知识产权局信息数据显现，深圳市美思先端电子有限公司请求一项名为“一种MEMS湿法刻蚀加工办法及MEMS传感器”的专利，公开号CN120364646A，请求日期为2025年06月。

  专利摘要显现，本发明公开了一种MEMS湿法刻蚀加工办法及MEMS传感器，该加工办法有在晶圆外表的介电层上方堆积维护资料层；在开始刻蚀方位对维护资料层及介电层进行刻蚀，使介电层下方的硅衬底露出；对露出的硅衬底进行KOH或TMAH湿法刻蚀，以在介电层下方刻蚀构成预设深度的中空腔体后清洗晶圆；运用干法刻蚀工艺对晶圆标明上进行整面刻蚀以去除维护资料层，整面刻蚀的深度与维护资料层的厚度持平。上述湿法刻蚀加工办法经过堆积维护资料层，在开始方位刻蚀以露出硅衬底之后再刻蚀硅衬底构成内部腔体，防止构成中空腔体后加工工艺对中空腔体上方的薄膜结构构成丢失损坏，经过削减对已构成薄膜的晶圆做相关操作，提高产品良率并确保器材功用齐备。

  天眼查资料显现，深圳市美思先端电子有限公司，成立于2015年，坐落深圳市，是一家以从事计算机、通讯和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1227.272727万人民币。经过天眼查大数据分析，深圳市美思先端电子有限公司共对外出资了7家企业，参加招投标项目8次，产业线条，此外企业还具有行政许可24个。